Micro-Tec MTC-5 Mehrfach-Kalibrierstandards
EM-Tec LAMC-15 großflächiger Vergrößerungsstandard
EM-Tec REM Probentelleradapter

EM-Tec M-1 und M-10 Rasterkalibrierstandards
mit 1 µm und 10 µm Teilung, NIST rückverfolgbar

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• M-1 und M-10 Rasterkalibrierstandards  |
  • EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster
  • EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster
• Informationen zu M-1 und M-10 Rasterkalibrierstandards 
  • EM-Tec M-1 calibration standard mit 1 µm Teilung
  • EM-Tec M-10 calibration standard mit 10 µm Teilung

Einleitung

Die EM-Tec M1 und M-10 Kalibrierstandards haben beide in ein ultraflaches Si-Substrat eingeätzte, quadratische Rastermaschen. Die Rastermaschen sind hilfreiche, praktische Werkzeuge bei der Kalibrierung der Vergrößerung und zur Beurteilung der Bildverzerrung. Sie sind gedacht für den Einsatz in REM, FE-REM, FIB, Auger, SIMS und Auflichtmikroskopen. Proben können auch direkt auf den Standards befestigt werden. Dann dient das Rastermuster des Standards im Hintergrund zur direkten Kalibrierung des Bildes. Dies ist besonders nützlich bei kleinen Proben und Pulvern. Die EM-Tec M1 und M-10 Kalibrierstandards werden mit einem NIST rückverfolgbaren Wafer-Level-Zertifikat geliefert.

Es gibt zwei verschiedene Rasterkalibrierstandards:

• EM-Tec M-1 mit einer 1 µm Teilung für 100x bis 10.000x Vergrößerung
• EM-Tec M-10 mit einer 10 µm Teilung für 100x bis 1000x Vergrößerung

EM-Tec M-1 mit einer 1 µm Teilung für 100x bis 10.000x Vergrößerung

Der EM-Tec M-1 mit einer 1 µm Teilung mit stärkeren Linien alle 10 und 100 µm. Er ist hilfreich bei der Kalibrierung im Vergrößerungsbereich von 100x bis 10.000x und zur Beurteilung der Bildverzerrung. Kleine Proben können für sofortige Kalibrierung oder Kalibriermaßstab im Bild direkt auf das Rastermuster aufgebracht werden. Die Linien sind direkt in ein ultraflaches Siliciumsubstrat geätzt, das gegenüber SiO2 geätzten Substratn ein hervorragendes Signal erzeugt.

Spezifikationen des EM-Tec M-1 Kalibrierstandards mit einer 1 µm Teilung

Substrat	525 µm dicker, ultraflacher Wafer mit <100> Orientierung
Leitfähigkeit	Sehr gut, 5-10 Ohm Widerstand
Rastergröße	3 x 3 mm
Teilung/Präzision	1µm ± 0,025µm, 10µm ± 0,025µm und 100µm ± 0,25µm
Linienart/-tiefe	Geätzt in Si, 300 nm ± 30 nm tiefe Linien
Linienbreite	200 nm ± 10 nm bei 1 µm Teillinien 300 nm ± 15 nm bei 10 µm Teillinien 400 nm ± 20 nm bei 100 µm Teillinien
Rechtwinkligkeit	Besser 0.01°
Markierungen	Ecken-Bezugsmarkierungen zur Findung der Gridposition
Würfelgröße	4 x 4 mm
Anwendungsbereich	REM, FE-REM, FIB, Auger, SIMS und Auflichtmikroskope
Kennzeichnung	Produkt-ID mit eingeätzter Seriennummer
Befestigung	Nicht montiert oder auf verschiedenen Trägern
Lieferung	Geliefert in Gel-Pak Box
Zertifizierung	Wafer-Level-Zertifikat auf Rückverfolgbarkeit, NIST

EM-Tec M-10 mit einer 10 µm Teilung für 100x bis 1000x Vergrößerung

Der EM-Tec M-10 mit einer 10 µm Teilung mit stärkeren Linien alle 100 µm. Er ist hilfreich bei der Kalibrierung im Vergrößerungsbereich von 100x bis 1000x und zur Beurteilung der Bildverzerrung. Kleine Proben können für sofortige Kalibrierung oder Kalibriermaßstab im Bild direkt auf das Rastermuster aufgebracht werden. Die Linien sind direkt in ein ultraflaches Siliciumsubstrat geätzt, das gegenüber SiO2 geätzten Substratn ein hervorragendes Signal erzeugt.

Spezifikationen des EM-Tec M-10 Kalibrierstandards mit einer 10 µm Teilung

Substrat	525 µm dicker, ultraflacher Wafer mit <100> Orientierung
Leitfähigkeit	Sehr gut, 5-10 Ohm Widerstand
Rastergröße	3 x 3 mm
Abstand/precision	10µm ± 0,025µm und 100µm ± 0,25µm
Teilung/Präzision	Geätzt in Si, 300 nm ± 30 nm tiefe Linien
Linienbreite	300nm ± 15nm bei 10 µm Teillinien 400nm ± 20nm bei 100 µm Teillinien
Rechtwinkligkeit	Bettes 0.01°
Markierungen	Ecken-Bezugsmarkierungen zur Findung der Gridposition
Würfelgröße	4 x 4 mm
Anwendungsbereich	REM, FE-REM, FIB, Auger, SIMS und Auflichtmikroskope
Kennzeichnung	Produkt-ID mit eingeätzter Seriennummer
Befestigung	Nicht montiert oder auf verschiedenen Trägern
Lieferung	Geliefert in Gel-Pak Box
Zertifizierung	Wafer-Level-Zertifikat auf Rückverfolgbarkeit, NIST

Bestellinformationen

EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster Der EM-Tec M-1 mit einer 1 µm Teilung ist hilfreich bei der Kalibrierung im Vergrößerungsbereich von 100x bis 10.000x und zur Beurteilung der Bildverzerrung. Das Rastermuster ist 3x3 mm groß. Die Linien sind direkt in ein ultraflaches Siliciumsubstrat geätzt. Die Linien sind 300 nm tief mit einer Breite von 200 nm bei 1 µm Linien, 300 nm bei 10 µm Linien und 400 nm bei 100 µm Linien. Alternativ können kleine Proben für sofortige Kalibrierung oder Kalibriermaßstab im Bild direkt auf das Rastermuster aufgebracht werden. Der Standard ist NIST rückverfolgbar; Beispiel für das Wafer-Level-Zertifikat der Rückverfolgbarkeit eines Em-Tec M-1 Raster-Kalibrierstandards. Gedacht für die Anwendung im REM, FE-REM, FIB, Auger, SIMS und Auflichtmikroskop. Artikel # Einheit Preis* Bestellung / Anfrage 31-T34000-U EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster, nicht montiert Anz: Stück €95,00 31-T34000-1 EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster, auf Ø 12,7 mm Standard Stub Anz: Stück €105,00 31-T34000-2 EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster, auf Ø 12,7 mm Zeiss Stub Anz: Stück €105,00 31-T34000-6 EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster, auf Ø 12,2 mm JEOL Stub Anz: Stück €122,50 31-T34000-8 EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster, auf Ø 15 mm Hitachi Stub Anz: Stück €105,00

EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster Der EM-Tec M-10 mit einer 10 µm Teilung ist hilfreich bei der Kalibrierung im Vergrößerungsbereich von 100x bis 1000x und zur Beurteilung der Bildverzerrung. Das Rastermuster ist 3x3 mm groß. Die Linien sind direkt in ein ultraflaches Siliciumsubstrat geätzt. Die Linien sind 300 nm tief mit einer Breite von 300 nm bei 10 µm Linien und 400 nm bei 100 µm Linien. Alternativ können kleine Proben für sofortige Kalibrierung oder Kalibriermaßstab im Bild direkt auf das Rastermuster aufgebracht werden. Der Standard ist NIST rückverfolgbar; Beispiel für das Wafer-Level-Zertifikat der Rückverfolgbarkeit eines Em-Tec M-10 Raster-Kalibrierstandards. Gedacht für die Anwendung im REM, FIB, Auger, SIMS und Auflichtmikroskop. Artikel # Einheit Preis* Bestellung / Anfrage 31-T35000-U EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster, nicht montiert Anz: Stück €95,00 31-T35000-1 EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster, auf Ø 12,7 mm Standard Stub Anz: Stück €105,00 31-T35000-2 EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster, auf Ø 12,7 mm Zeiss Stub Anz: Stück €105,00 31-T35000-6 EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster, auf Ø 12,2 mm JEOL Stub Anz: Stück €122,50 31-T35000-8 EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster, auf Ø 15 mm Hitachi Stub Anz: Stück €105,00

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